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NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的...

NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達到6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限真...

NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可達1...

NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達8“旋轉(zhuǎn)平臺，可支持4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限真空可達1...

NEE-4000（A）全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺位于主腔體內(nèi)，二級腔體則用于安置...

NPE-4000 ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到...

NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)機制：PLD的系統(tǒng)設備簡單，相反，它的原理卻是非常復雜的物理現(xiàn)象。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時，激光與物質(zhì)之間的...

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達8“旋轉(zhuǎn)平臺，可支持4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限...

NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。...

NOC-4000光學鍍膜系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統(tǒng)提供*的技術，在一個腔體中實現(xiàn)原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第...